一种利用高刚性薄膜应力提高压电基底性能的方法专利登记公告

专利名称：一种利用高刚性薄膜应力提高压电基底性能的方法

摘要：本发明涉及一种利用高刚性薄膜应力提高压电基底性能的方法。本发明是为了解决在现有工艺条件下，叉指电极周期长度不能无限制细微化提高声波传播速度的问题。本发明提供一种利用高刚性薄膜应力提高压电基底性能的方法，是在压电基底上沉积高刚性薄膜，采用磁控溅射镀膜方法控制高刚性薄膜应力，使压应力达到5～10GPa范围内。通过提高机械性能改善声学性能制作高性能SAW器件。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210001559.7

专利申请（专利权）人：西安工业大学

专利发明（设计）人：刘卫国;刘欢;蔡长龙;高爱华;鲍帅

主权项：一种利用高刚性薄膜应力提高压电基底性能的方法，是在压电基底上沉积高刚性薄膜，采用磁控溅射镀膜方法控制高刚性薄膜应力，使压应力为5～10GPa。

专利地区：陕西