用于气相沉积系统的入口和出口辊子密封构造专利登记公告

专利名称：用于气相沉积系统的入口和出口辊子密封构造

摘要：用于气相沉积系统的入口和出口辊子密封构造，具体而言，一种用于将升华的源材料气相沉积为离散的光伏(PV)模块衬底上的薄膜的装置，衬底以连续不停的方式传送经过该装置。该装置包括气相沉积头，其构造成用于接纳并升华源材料，且用于将升华的源材料分配到传送经过沉积区的衬底的上表面上。辊子密封构造设于用于传送经过该装置的衬底的入口槽和出口槽中的每一者处。该辊子密封构造还包括柱体，其可旋转地支撑在衬底的传送平面上方的限定间隙高度处，使得柱体不在成品活性半导体材料的窗口内与衬底成连续滚动接触。柱体相对于衬底的传送平面在竖直

专利类型：发明专利

专利号：CN201110460425.7

专利申请（专利权）人：初星太阳能公司

专利发明（设计）人：C·拉思维格

主权项：一种用于将升华的源材料气相沉积为离散的光伏(PV)模块衬底(14)上的薄膜的装置(60)，所述离散的光伏(PV)模块衬底以连续不停的方式传送经过所述装置，所述装置包括：气相沉积头(62)，其构造成用于接纳并升华源材料，并用于将升华的源材料分配到传送经过所述装置的沉积区(112)的衬底的上表面上；辊子密封构造(200)，其具有用于传送经过所述装置的衬底的入口槽(120)和出口槽(122)中的至少一者；所述辊子密封构造还包括柱体(202)，所述柱体可旋转地支撑在所述衬底的传送平面(208)上方的限定间隙高度(

专利地区：美国