Cd/CdS-SiO₂三阶非线性光学三元复合薄膜材料及其制备方法专利登记公告

专利名称：Cd/CdS-SiO₂三阶非线性光学三元复合薄膜材料及其制备方法

摘要：一种Cd/CdS-SiO2三阶非线性光学复合薄膜材料，CdS-SiO2薄膜上嵌有Cd颗粒的复合薄膜结构。所述复合薄膜材料的制备方法，包括如下步骤：CdS-SiO2溶胶的制备；以CdS-SiO2溶胶为镀液，以ITO导电玻璃为阴极，通过控制电压和电镀时间在ITO导电玻璃上形成复合薄膜；将附着有复合薄膜的工作电极在室温下自然晾干即可获得三阶非线性光学三元复合薄膜材料。制备Cd/CdS-SiO2薄膜时在阴极上形成CdS-SiO2凝胶膜，与此同时Cd离子在阴极上电沉积为Cd颗粒，镶嵌于CdS-SiO2凝胶膜中，构成

专利类型：发明专利

专利号：CN201210008821.0

专利申请（专利权）人：重庆大学

专利发明（设计）人：辜敏;卿胜兰;鲜晓东

主权项：?Cd/CdS?SiO2三阶非线性光学三元复合薄膜材料及其制备方法，其特征在于：CdS?SiO2薄膜上嵌有Cd颗粒的复合薄膜结构。

专利地区：重庆