杂质离子除去装置专利登记公告

专利名称：杂质离子除去装置

摘要：作为从溶液中除去杂质离子的装置，提供在电极附近产生的活性物质或气体不会混入到体系内、以良好的检测灵敏度取出测定对象离子的柱型离子除去装置。在填充了吸附杂质离子的离子交换体的卧式柱的上端，在一方的电极附近设置溶液入口，在下端的另一方的电极侧设置出口，构成狭窄的液体流路，在柱的端部形成以离子交换膜和离子交换体组合的离子界面，使由源自水的解离平衡的偏差所产生的离子朝着电极移动，一边使吸附除去对象杂质离子的离子交换体再生一边将杂质离子排出至外部。同时，从外部向电极和离子交换膜之间通水，促进气体、除去对象杂质离子的

专利类型：发明专利

专利号：CN201180003777.8

专利申请（专利权）人：日理工业株式会社

专利发明（设计）人：增长洋登;丸山昇

主权项：杂质离子除去装置，作为从含有杂质离子的溶液中除去阳离子、阴离子中的任一种杂质离子的装置，其特征在于，包括：(X1)隔着吸附除去对象杂质离子的离子交换体A1层，通过对一方的电极C1侧赋予耐久性的离子交换膜B1而具备电极C1，所述电极C1与除去对象杂质离子的极性相同，所述离子交换膜B1是与除去对象杂质离子的极性相同的离子交换膜，通过对另一方的电极C2侧赋予耐久性的离子交换膜B2而具备电极C2，所述电极C2与除去对象杂质离子的极性相反，所述离子交换膜B2是与除去对象杂质离子的极性相反的离子交换膜，(X2)在所述

专利地区：日本