悬浮液、研磨液套剂、研磨液以及使用它们的基板的研磨方法专利登记公告

专利名称：悬浮液、研磨液套剂、研磨液以及使用它们的基板的研磨方法

摘要：本发明涉及的悬浮液，含有磨粒和水，磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中，对于波长500nm的光有50%/cm以上的光透过率。本发明涉及的研磨液，含有磨粒、添加剂和水，磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中，对于波长500nm的光有50%/cm以上的光透过率。

专利类型：发明专利

专利号：CN201180005050.3

专利申请（专利权）人：日立化成工业株式会社

专利发明（设计）人：岩野友洋;秋元启孝;成田武宪;木村忠广;龙崎大介

主权项：一种悬浮液，其特征在于，含有磨粒和水，所述磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中，对于波长500nm的光有50%/cm以上的透光率。

专利地区：日本