随机达曼光栅的制备方法专利登记公告

专利名称：随机达曼光栅的制备方法

摘要：一种随机达曼光栅的制备方法，包括下列步骤：①在两面平行的透明介质基片的一面涂匀光刻胶，置于随机光场下曝光显影并刻蚀，从而在刻蚀面形成具备一定深度的随机图案，②在所述的透明介质另一面涂匀光刻胶，置于达曼光栅掩模图案下曝光显影和刻蚀，形成具备一定深度的传统达曼光栅结构图案。或先单独加工一个传统的达曼光栅和一个随机相位板，将所述的达曼光栅和所述的随机相位板紧贴组合在一起形成。本发明随机达曼光栅具备衍射光信息量大的优点，相对于传统随机相位板，随机达曼光栅衍射光具备规则点阵光信息，信噪比高，信号处理方便等优点。随机

专利类型：发明专利

专利号：CN201210007105.0

专利申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所

专利发明（设计）人：王少卿;周常河;韦盛斌;贾伟;曹红超;麻健勇

主权项：一种随机达曼光栅的制备方法，其特征在于该方法包括下列步骤：①在两面平行的透明介质基片的一面涂匀光刻胶，置于随机光场下曝光显影并刻蚀，从而在刻蚀面形成具备一定深度的随机图案，此时该基片衍射图样为保留零级光的均匀分布的随机散斑，所述随机光场可通过均匀光照明磨砂玻璃产生；②在所述的透明介质另一面涂匀光刻胶，置于达曼光栅掩模图案下曝光显影和刻蚀，并控制显影和刻蚀的时间，从而在介质基片的此面形成具备一定深度的传统达曼光栅结构图案；所述的步骤①和步骤②的先后顺序可以互换。

专利地区：上海