利用光栅成像扫描光刻制备大尺寸光栅的方法专利登记公告

专利名称：利用光栅成像扫描光刻制备大尺寸光栅的方法

摘要：一种利用光栅成像后扫描光刻制备大尺寸光栅的方法，该方法包括：构建一个带有滤波装置的光栅成像光路系统；制备一片有锯齿形轮廓的位相光栅；利用步骤一所建立的光路，将位相光栅和基板引入光路中，使光栅清晰地成像于基板上；通过移动基板实现扫描光刻；将所述的完成扫描曝光基板进行显影、去铬、去胶、刻蚀再去铬这一系列工艺后即得到大尺寸光栅。本发明方法具有设备结构简单、不存在杂散光、能量利用率高的优点，在制作大尺寸光栅方面有很好的发展前景。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210015259.4

专利申请（专利权）人：中国科学院上海光学精密机械研究所

专利发明（设计）人：俞斌;周常河;贾伟;麻健勇

主权项：一种利用光栅成像扫描光刻制备大尺寸光栅的方法，其特征在于该方法包括下列步骤：①构建一个实现光栅成像的光路系统，包括激光器(1)、第一反射镜(2)、第二反射镜(3)、扩束装置(4)、准直透镜(5)、位相光栅(6)、第一透镜(7)、空间滤波器(8)、第二透镜(9)和基板(10)，所述的基板(10)固定在可沿X轴即水平轴、Y轴即垂直轴精密移动的移动台上，所述的位相光栅(6)置于一个旋转台上，所述的第一反射镜(2)和第二反射镜(3)与激光器(1)的输出光路的夹角为45°，所述的激光器(1)发出的光经过第一反射镜(

专利地区：上海