一种制版光刻设备动态稳定性测量方法专利登记公告

专利名称：一种制版光刻设备动态稳定性测量方法

摘要：本发明属于制版光刻技术领域，具体涉及一种用于制版光刻设备的动态稳定性测量方法。本方法将掩模板固定在平台上，并在掩模板上制作多个定位标记；然后依次记录每一个定位标记的中心与CCD相机视场中心重合时的平台坐标；再逐次以每一个坐标为中心，使平台做移出和回位运动，当载物平台回位后，计算出此定位标记中心与CCD相机视场中心之间的中心偏移量；重复多次则得到多个中心偏移量，对多个中心偏移量通过算法计算出与该定位标记中心相对应的重复定位精度值；则得到与多个定位标记中心分别对应的重复定位精度值；再对多个重复定位精度值计算出

专利类型：发明专利

专利号：CN201210009238.1

专利申请（专利权）人：合肥芯硕半导体有限公司

专利发明（设计）人：方林

主权项：一种制版光刻设备动态稳定性测量方法，其特征在于包含如下步骤：1)、将掩模板固定在载物平台上，并在掩模板上制作P(P＞1)个定位标记；2)、将所述P个定位标记依次成像于制版光刻设备中的CCD相机视场内，并通过图像处理技术对定位标记进行处理和计算，以得出每一个定位标记的中心与CCD相机视场中心的偏移量，然后移动载物平台，使每一个定位标记的中心均移动至与CCD相机视场中心相重合，并依次记录与每一个定位标记中心相对应的当此定位标记中心与CCD相机视场中心重合时的载物平台的空间物理坐标；3)、逐次地，以载物平台的每

专利地区：安徽