无掩膜直写式光刻机系统中图形数据灰度值的计算方法专利登记公告

专利名称：无掩膜直写式光刻机系统中图形数据灰度值的计算方法

摘要：本发明公开了一种无掩膜直写式光刻机系统中图形数据灰度值的计算方法，包括有使用空间光调制器（SLM）作为图形发生器的无掩膜直写式光刻机系统，通过对曝光图形的方向进行判断，区分SLM像素中被覆盖的部分和未被覆盖的部分，以梯形为基本单元，计算相应的被覆盖部分的面积大小即为边缘区域的灰度值。本发明通过一种采用面积覆盖的方式来进行图形反走样灰度的精确计算，提高了图形处理的精度，对于规则图形，理论上计算的灰度是就没有任何信息的丢失。而这种灰度处理算法最大优势还在于它的处理速度，相对于子像素填充的方法来计算灰度，本发明

专利类型：发明专利

专利号：CN201210009369.X

专利申请（专利权）人：合肥芯硕半导体有限公司

专利发明（设计）人：卢云君;蒋兴华;李显杰

主权项：一种无掩膜直写式光刻机系统中图形数据灰度值的计算方法，包括有使用空间光调制器（SLM）作为图形发生器的无掩膜直写式光刻机系统，照明光源发出的光经过聚光镜系统汇聚、均匀化以后以特定角度入射到SLM上，SLM接收到数字化的灰度数据后，调制SLM的微镜翻转的占空比或微镜重复曝光的次数，实现曝光能量的灰度调制，得到的不同灰阶的曝光能量通过远心成像系统成像在基底上；其特征在于：所述基底上的曝光图形分为内部区域、边缘区域，内部区域直接曝光白图，边缘区域由灰度来表示，边缘区域的灰度值由图形相应的矢量数据通过精确计算产生

专利地区：安徽