连续真空镀膜装置专利登记公告

专利名称：连续真空镀膜装置

摘要：本发明公开一种连续真空镀膜装置，该装置由若干个镀膜腔体串接节联构成，每个镀膜腔体配置有离子束清洗源、和/或过滤阴极真空镀膜膜源、和/或磁控溅射源和分子真空泵，镀膜腔体之间用插板阀关闭密封或开启，节联的镀膜腔体，两头各有一个装载/卸载室和一个真空过渡室，装载/卸载室后面分别有镀制工件转动架平台，镀制工件转动架平台上放置镀制工件转动架，镀制工件转动架上悬挂有镀制工件，镀制工件转动架通过传动滚轴传送到各个镀膜腔体，依次、连续实施不同需求的连续镀膜后，分别从一端的装载/卸载室取出。优点在于，可长时间连续镀膜，延长

专利类型：发明专利

专利号：CN201210018206.8

专利申请（专利权）人：纳峰真空镀膜（上海）有限公司

专利发明（设计）人：史旭

主权项：一种连续真空镀膜装置，其特征在于：该装置由若干个镀膜腔体串接节联构成，每个镀膜腔体配置有离子束清洗源、和/或过滤阴极真空镀膜膜源、和/或磁控溅射源和分子真空泵，镀膜腔体之间用插板阀关闭密封或开启，节联的镀膜腔体，两头各有一个装载/卸载室和一个真空过渡室，装载/卸载室后面分别有镀制工件转动架平台，镀制工件转动架平台上放置镀制工件转动架，镀制工件转动架上悬挂有镀制工件，镀制工件转动架通过传动滚轴传送到各个镀膜腔体，依次、连续实施不同需求的连续镀膜后，分别从一端的装载/卸载室取出。

专利地区：上海