掩模专利登记公告

专利名称：掩模

摘要：公开了一种可用于在淀积设备中在衬底上形成图案的掩模，以及使用该掩模来制造显示装置的方法。所述掩模包括掩模图案和框架。该掩模具有渐缩形状，其中该框架的内表面在从上端到下端的方向上渐缩。使用该掩模的掩模图案在衬底上形成薄膜图案。所述框架支持所述掩模图案的外部，并且包括在设置所述掩模图案的内侧方向渐缩的斜面。

专利类型：发明专利

专利号：CN201110441446.4

专利申请（专利权）人：乐金显示有限公司

专利发明（设计）人：李宰赫;申荣训

主权项：一种用于在衬底上形成薄膜图案的掩模，该掩模包括：掩模图案，该掩模图案限定了要形成在所述衬底上的所述薄膜图案；以及框架，该框架支持所述掩模图案，并且包括在设置所述掩模图案的内侧方向渐缩的斜面。

专利地区：韩国