一种基于正交光楔分光特性及焦斑重构算法的激光远场焦斑测量方法专利登记公告

专利名称：一种基于正交光楔分光特性及焦斑重构算法的激光远场焦斑测量方法

摘要：本发明提供一种基于正交光楔分光特性及焦斑重构算法的激光远场焦斑测量方法，该方法的测量装置包括一对正交光楔、聚焦透镜、CCD成像器件和计算机系统，入射激光束经两块楔角朝向彼此正交的光楔器件的分束及聚焦透镜的会聚后，在位于透镜焦平面内的CCD光敏面上形成峰值强度依次衰减的子光斑阵列，采取有效的方法将所测得的各子光斑进行拼接融合，最终重构得到完整的激光远场焦斑强度分布。本发明可以大幅度拓展CCD的测量动态范围，将实际焦斑的大量高频旁瓣信息从CCD背景噪声中提取出来，使准确测量和评估光束质量成为可能。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210026465.5

专利申请（专利权）人：中国科学院光电技术研究所

专利发明（设计）人：贺元兴;李新阳

主权项：一种基于正交光楔分光特性及焦斑重构算法的激光远场焦斑测量方法，其特征在于：该方法的测量装置包括：一对正交光楔器件(1和2)、聚焦透镜(3)、CCD成像器件(4)和计算机系统(5)；其中，一对正交光楔器件即两光楔的楔角彼此正交，并且该两光楔于聚焦透镜(3)前表面位置密接放置，CCD成像器件(4)的光敏面与聚焦透镜的焦平面重合；待测量激光束经正交光楔组(1和2)分束后被聚焦透镜(3)会聚，在CCD成像器件(4)光敏面上不同探测区域内形成不同能量衰减的子光斑，计算机系统(5)采集CCD成像器件(4)输出的数据，

专利地区：四川