用于实施基于模型的光刻引导的布局设计的方法专利登记公告

专利名称：用于实施基于模型的光刻引导的布局设计的方法

摘要：本发明公开一种用以产生有效的基于模型的亚分辨辅助特征(MB-SRAF)的方法。产生SRAF引导图，其中每个设计目标边缘位置为给定场点表决有关布置在该场点上的单像素SRAF将改善还是弱化整个过程窗口的空间图像。在一个实施例中，SRAF引导图被用于确定SRAF布置规则和/或用于微调已经布置的SRAFs。SRAF引导图可以直接用于在掩模布局中布置SRAFs。可以产生包括SRAFs的掩模布局数据，其中根据SRAFs引导图布置SRAFs。SRAF引导图可以包括这样的图像：即，在所述图像中如果像素被包括作为亚分辨辅助

专利类型：发明专利

专利号：CN201210031236.2

专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司

专利发明（设计）人：叶军;曹宇;冯函英

主权项：一种用于在掩模布局中布置亚分辨辅助特征的方法，包括步骤：产生用于所述掩模布局的SRAF引导图，其中所述SRAF引导图是这样的图像：即，在所述图像中如果所述像素被包括作为亚分辨辅助特征的一部分，则每个像素值指示所述像素将是否对所述掩模布局中的特征的边缘行为提供正面贡献；和根据所述SRAF引导图在所述掩模布局中布置亚分辨辅助特征；其中，产生SRAF引导图的步骤包括：采用表示曝光工具的光学路径的传递交叉系数计算双线性SRAF引导图核；采用所述传递交叉系数计算线性SRAF引导图核；采用所述双线性SRAF引导图核和

专利地区：荷兰