一种用于曝光机对准的光罩及光罩对准标记制作方法专利登记公告

专利名称：一种用于曝光机对准的光罩及光罩对准标记制作方法

摘要：本发明公开了一种用于曝光机对准的光罩及光罩对准标记制作方法，用以解决现有技术中由于光罩更换过程中由于光罩对准不准确，影响曝光产品的精度的问题。该光罩包括第一组对准标记，第二组对准标记和第三组对准标记中的至少两组，每组对准标记位于经过光罩中心点的横轴和纵轴上。由于在本发明实施例中该用于曝光机台校准的光罩包括至少两组对准标记，因此扩大了采用该光罩进行对准的曝光机台的范围，减小了在每次曝光过程中更换光罩的可能性，从而降低了曝光过程中产生的误差，提高了曝光产品的精度。

专利类型：发明专利

专利号：CN201010621803.0

专利申请（专利权）人：北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司

专利发明（设计）人：戴新华;徐国刚;赵志敏;马玉玲

主权项：一种用于曝光机对准的光罩，其特征在于，所述光罩包括：第一组对准标记，第二组对准标记和第三组对准标记中的至少两组，其中，所述第一组对准标记包括Rx1、Ry1和Rθ1，其中Rx1位于经过所述光罩中心点的纵轴的负半轴，并且距离所述中心点54毫米，Ry1位于经过所述光罩中心点的横轴的负半轴，距离所述中心点53毫米，Rθ1位于经过所述光罩中心点的横轴的正半轴，距离所述中心点53毫米，所述第二组对准标记包括Rx2、Ry2和Rθ2，其中Rx2位于经过所述光罩中心点的纵轴的负半轴，并且距离所述中心点52毫米，Ry2位于经

专利地区：北京