修补掩模板的设备及方法专利登记公告

专利名称：修补掩模板的设备及方法

摘要：本发明实施例公开一种修补掩模板的设备及方法，涉及半导体、光电子及电子设备领域，解决了由于非黑点类不良导致掩模板被弃用的问题。本发明实施例提供的修补掩模板的设备，包括修理平台，还包括控制单元，所述控制单元通过控制线与所述修理平台连接，所述修理平台上设有光阻注射器和光阻凝固装置，所述控制单元根据待修补掩模板上缺陷的缺陷属性控制所述光阻注射器和所述光阻凝固装置对所述待修补掩模板上的缺陷进行修补，所述缺陷属性包括所述待修补掩模板上缺陷的大小和位置信息。本发明实施例提供的修补掩模板的设备及方法，能够应用于半导体、光

专利类型：发明专利

专利号：CN201010608246.9

专利申请（专利权）人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司

专利发明（设计）人：徐涛

主权项：一种修补掩模板的设备，包括修理平台，其特征在于，还包括控制单元，所述控制单元通过控制线与所述修理平台连接，所述修理平台上设有光阻注射器和光阻凝固装置，所述控制单元根据待修补掩模板上缺陷的缺陷属性控制所述光阻注射器和所述光阻凝固装置对所述待修补掩模板上的缺陷进行修补，所述缺陷属性包括所述待修补掩模板上缺陷的大小和位置信息。

专利地区：北京