具有双温度区的静电吸盘的衬底支架专利登记公告

专利名称：具有双温度区的静电吸盘的衬底支架

摘要：一种具有双温度区的静电吸盘的衬底支架。本发明公开了一种在衬底处理腔室中用于容纳衬底的静电吸盘，包括具有衬底容纳表面和具有多个隔开的台面的相对的背面的陶瓷圆盘。电极嵌入在陶瓷圆盘中以产生静电力以保持衬底。位于陶瓷圆盘的外围和中心部分的加热线圈允许对陶瓷圆盘的中心和外围部分进行温度独立控制。通过具有容纳空气的凹槽的底座支撑吸盘。吸盘和底座协作以允许在腔室中调整衬底的温度分布。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210033377.8

专利申请（专利权）人：应用材料公司

专利发明（设计）人：亚历山大·马蒂亚申;丹尼斯·库斯;桑托斯·帕纳格保罗斯;约翰·霍兰德

主权项：一种在处理腔室中用于容纳衬底的衬底支架，所述组件包括：(a)静电吸盘，所述静电吸盘包括：(i)包括衬底容纳表面和相对的背面的陶瓷圆盘、以及具有台阶的外围壁架；(ii)穿过所述陶瓷主体并且在所述衬底容纳表面上的端口处终止的多个热传送气体导管；(iii)嵌入在所述陶瓷圆盘中的电极；(b)底座，所述底座包括金属主体，所述金属主体具有顶表面和外围部分，所述顶表面包括吸盘容纳部分以容纳所述陶瓷圆盘的所述背面，所述外围部分径向向外延伸超过所述陶瓷圆盘；(c)边缘环，所述边缘环设置在所述陶瓷圆盘的所述外围壁架的台阶上；

专利地区：美国