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一种深离子反应刻蚀结合辊压制备全金属微结构的方法专利登记公告


专利名称:一种深离子反应刻蚀结合辊压制备全金属微结构的方法

摘要:本发明公开了一种深离子反应刻蚀结合辊压制备全金属微结构的加工方法,首先在基片(1)表面依次涂一层聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和一层含硅的聚氨酯丙烯酸酯(PUA),然后利用自制的辊压装置在PUA层上辊压形成一个比较浅的沟槽,脱模后,先用SF6和O2的混合气体作为工作气体进行离子反应刻蚀,直至把沟槽里的PUA刻蚀掉,再单独用O2作为工作气体对PMMA层(3)进行离子刻蚀,直至把沟槽里的PMMA层(3)刻蚀掉,最后是微电铸、去胶、成型。本发明方法易于实现大面积和重复性生产,并能有效缩短加工周期、降低加工成本。

专利类型:发明专利

专利号:CN201210040416.7

专利申请(专利权)人:合肥工业大学

专利发明(设计)人:杨军;杨路路;阮久福;邱龙臻;邓光晟

主权项:一种深离子反应刻蚀结合辊压制备全金属微结构的方法,其特征在于按以下步骤操作:(1)涂胶基片的制备以硅片为基片(1),在基片(1)的上表面溅射一层厚度为0.5?1μm的Ti作为导电层(2),在导电层(2)上涂布形成厚度为60?80μm的PMMA层(3),再于PMMA层(3)上涂布形成厚度为15?25μm的PUA层(4)形成涂胶基片;(2)辊压采用金属材料制作的辊筒式辊压模,用激光烧结方法在辊压模表面加工出与所需成型的微结构相应的微结构凸模得到辊压模具(5);将所述辊压模具(5)置于所述涂胶基片的PUA层(4

专利地区:安徽