一种透明导电层的制造方法专利登记公告

专利名称：一种透明导电层的制造方法

摘要：本发明提供一种透明导电层的制造方法，包括：形成一金属层；沉积至少一层石墨烯层于金属层上；刻蚀石墨烯层形成网格状图案；提供一基板；转移石墨烯层于基板上。采用本发明可以在提升导电层的穿透率的同时降低阻值。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210041075.5

专利申请（专利权）人：友达光电股份有限公司

专利发明（设计）人：邱博文;林永昌;廖家翎;胡国仁;陈嘉祥;江明峰

主权项：一种透明导电层的制造方法，其特征在于，包括：形成一金属层；沉积至少一层石墨烯层于所述金属层上；刻蚀所述石墨烯层形成网格状图案；提供一基板；以及转移所述石墨烯层于所述基板上。

专利地区：台湾