光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法专利登记公告

专利名称：光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法

摘要：本发明提供一种光致抗蚀剂制造用溶剂组合物及其制造方法，在光致抗蚀剂的制造中，所述溶剂组合物对灵敏度高的肟酯类光聚合引发剂的溶解性良好，且不会损害电子材料用途的浆料组合物的特性。所述光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法的特征在于，混合包含选自下述式(A1)、(A2)、(A3)、(A4)及(A5)所示的化合物中的至少一种化合物的溶剂A和肟酯类光聚合引发剂来制成溶剂组合物(C)后，将溶剂组合物(C)及与所述溶剂A相溶的溶剂B混合得到光致抗蚀剂制造用组合物(D)。[化学式1]

专利类型：发明专利

专利号：CN201210059273.4

专利申请（专利权）人：株式会社大赛璐

专利发明（设计）人：铃木阳二;赤井泰之

主权项：一种光致抗蚀剂制造用组合物的制造方法，其特征在于，将包含选自下述式(A1)、(A2)、(A3)、(A4)及(A5)所示的化合物中的至少一种化合物的溶剂A和肟酯类光聚合引发剂混合来制成溶剂组合物(C)，然后将溶剂组合物(C)及与所述溶剂A相溶的溶剂B混合得到光致抗蚀剂制造用组合物(D)，上述式中，R1～R4、R1’、R2’相同或不同，分别为C1?2的烷基，R1和R3、或R2和R4任选相互键合而分别形成环；R5和R6相互键合而形成4～8元环，环可以分支而具有侧链；R5’和R6’相互键合而形成3～7元环，环可以

专利地区：日本