光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物专利登记公告

专利名称：光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物

摘要：本发明提供一种光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物。在制造光致抗蚀剂时，所述光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物对灵敏度高的肟酯类光聚合引发剂的溶解性良好，且不会损害电子材料用途的浆料组合物的特性。所述光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物用于溶解肟酯类光聚合引发剂，其包含溶剂A，所述溶剂A具有选自下述式(A)所示的化合物中的至少一种化合物。下述式(A)中，R1～R4相同或不同，分别为C1-2的烷基，R1和R3、或R2和R4任选相互键合而分别形成环。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210059260.7

专利申请（专利权）人：株式会社大赛璐

专利发明（设计）人：铃木阳二;赤井泰之

主权项：一种光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物，其用于溶解肟酯类光聚合引发剂，该光致抗蚀剂制造用溶剂或溶剂组合物包含溶剂A，所述溶剂A具有选自下述式(A)所示的化合物中的至少一种化合物，上述式(A)中，R1～R4相同或不同，分别为C1?2的烷基，R1和R3、或R2和R4任选相互键合而分别形成环。FDA0000141575790000011.tif

专利地区：日本