一种在可见光区域反射无色光的减反射膜制作方法专利登记公告

专利名称：一种在可见光区域反射无色光的减反射膜制作方法

摘要：本发明公开了一种在可见光区域反射无色光的减反射膜制作方法，包括以下步骤：一)PMMA板材除湿；二)真空镀减反射膜：1)将PMMA板材放入镀膜机的真空室内，2)对PMMA板材的上表面进行除水；3)对PMMA板材进行表面清洁和活化；4)对镀膜机的真空室进行加热；5)在PMMA板材的上表面上逐层沉积厚度为12.6nm～13.6nm的氧化锆膜、厚度为17.2nm～18.2nm的二氧化硅膜、厚度为83.4nm～88.2nm的氧化锆膜和厚度为62nm～65.8nm的二氧化硅膜；三)从镀膜机的真空室中取出镀完减反射膜的

专利类型：发明专利

专利号：CN201210060009.2

专利申请（专利权）人：天津美泰真空技术有限公司

专利发明（设计）人：沈励;陈奇;石富银;许沐华;吴克坚

主权项：一种在可见光区域反射无色光的减反射膜制作方法，其特征在于，包括以下步骤：一)PMMA板材除湿；二)真空镀减反射膜：1)将PMMA板材放入镀膜机的真空室内，2)对PMMA板材的上表面进行除水；3)对PMMA板材进行表面清洁和活化；4)对镀膜机的真空室进行加热；5)在PMMA板材的上表面上逐层沉积厚度为12.6nm～13.6nm的氧化锆膜、厚度为17.2nm～18.2nm的二氧化硅膜、厚度为83.4nm～88.2nm的氧化锆膜和厚度为62nm～65.8nm的二氧化硅膜；三)从镀膜机的真空室中取出镀完减反射膜的

专利地区：天津