投影系统、光刻设备和器件制造方法专利登记公告

专利名称：投影系统、光刻设备和器件制造方法

摘要：本发明公开了一种投影系统、光刻设备和器件制造方法。其中公开了投影系统、光刻设备和器件制造方法的各种配置。根据所公开的配置，所述投影系统配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。所述投影系统包括光学元件，所述光学元件包括第一面和第二面。所述第一面配置成暴露于连接至所述光刻设备的外面的外部气体环境。所述第二面配置成暴露于内部气体环境，所述内部气体环境实质上与所述外部气体环境隔离。所述投影系统还包括压强补偿系统，配置成响应于所述外部气体环境中的压强变化、或内部气体环境与外部气体环境之间的压差来调整所述内部气

专利类型：发明专利

专利号：CN201210060737.3

专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司

专利发明（设计）人：F·J·J·范鲍克斯台尔;R·F·德格拉夫;A·J·范德奈特;J·A·M·M·范尤杰叔格;L·H·范德霍伊维尔

主权项：一种用于光刻设备的投影系统，其中：所述投影系统配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；所述投影系统包括光学元件，所述光学元件包括第一面和第二面；所述第一面配置成暴露于连接至所述光刻设备的外面的外部气体环境；所述第二面配置成暴露于内部气体环境，所述内部气体环境实质上与所述外部气体环境隔离；和所述投影系统还包括压强补偿系统，所述压强补偿系统配置成响应于所述外部气体环境中的压强变化来调整所述内部气体环境中的压强。

专利地区：荷兰