光刻设备专利登记公告

专利名称：光刻设备

摘要：本发明公开一种光刻设备，包括衬底台位置测量系统和投影系统位置测量系统，分别用以测量衬底台和投影系统的位置。衬底台位置测量系统包括安装在衬底台上的衬底台参考元件和第一传感器头。衬底台参考元件在基本上平行于衬底台上的衬底的保持平面的测量平面内延伸。保持平面布置在测量平面的一侧并且第一传感器头布置在测量平面的相对侧。投影系统位置测量系统包括一个或多个投影系统参考元件和传感器组件。传感器头和传感器组件或相关的投影系统测量元件安装在传感器框架上。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210056867.X

专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司

专利发明（设计）人：恩格尔伯塔斯·安东尼纳斯·弗朗西丝克斯·范德帕斯奇;J·J·奥坦斯;E·J·M·尤森;J·H·W·雅各布斯;W·P·范德兰特;F·斯塔尔斯;L·J·曼彻特;E·W·博高特

主权项：一种光刻设备，包括：衬底台，所述衬底台包括保持器，所述保持器配置成将衬底保持在保持平面内；投影系统，所述投影系统配置成当衬底台被定位在曝光区域内时将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上；支撑投影系统的基本上隔离振动的框架；衬底台位置测量系统，所述衬底台位置测量系统配置成测量衬底台的位置，其中所述衬底台位置测量系统包括：衬底台参考元件，所述衬底台参考元件布置在衬底台上，和第一传感器头，所述第一传感器头配置成确定第一传感器头相对于衬底台参考元件的位置，其中所述衬底台参考元件在基本上平行于保持平面的测量平面内延伸

专利地区：荷兰