光刻设备和器件制造方法专利登记公告

专利名称：光刻设备和器件制造方法

摘要：本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。所述光刻设备包括：衬底台，构造成保持衬底；投影系统，配置成将图案化的辐射束投影通过开口并投影到衬底的目标部分上；和管道，具有位于开口内的出口。所述管道配置成将气体传送至所述开口。光刻设备还包括由控制系统控制的冷却设备。冷却设备配置成冷却所述气体以使得从开口行进至衬底的气体在其入射到所述衬底上时具有预定的温度。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210055428.7

专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司

专利发明（设计）人：H·K·尼恩黑斯;M·A·W·崔帕斯;L·M·莱瓦西尔;简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特;Y·J·G·范德维基沃尔;O·V·沃兹纳;F·J·J·詹森;D·M·H·菲利普斯;M·A·C·马兰达;O·加拉克季奥诺夫;L·J·A·凡鲍克霍文;N·坦凯特;M·兰詹;A·P·瑞吉普玛;K·巴尔;R·W·A·H·施密茨;A·L·C·勒鲁

主权项：一种光刻设备，包括：衬底台，构造成保持衬底；投影系统，配置成将图案化的辐射束投影通过开口并投影到衬底的目标部分上；管道，具有位于开口内的出口，所述管道配置成将气体传送至所述开口；和由控制系统控制的冷却设备，所述冷却设备配置成冷却所述气体以使得从开口行进至衬底的气体在其入射到所述衬底上时具有预定的温度。

专利地区：荷兰