局部曝光装置专利登记公告

专利名称：局部曝光装置

摘要：提供一种局部曝光装置，调整在基板面内较细地设定的每个区域的曝光量，提高显影处理后抗蚀剂残留膜的均匀性，抑制布线图案的线宽以及间距的偏差。具备：具有在基板输送路径上方沿着与基板输送方向相交叉的方向排列的多个发光元件的光源、能够选择性地将构成光源的多个发光元件中的一个或者多个作为发光控制单位来进行发光驱动的发光驱动部、被设置成在被处理基板没有在光源下方输送的状态下能够沿着光源对被处理基板照射光的光照射位置而在基板宽度方向上进退来检测由光源照射的光照度的照度检测单元、存储由照度检测单元检测出的照度与发光元件的驱

专利类型：发明专利

专利号：CN201210043661.3

专利申请（专利权）人：东京毅力科创株式会社

专利发明（设计）人：森山茂;牧哲也;田中茂喜

主权项：一种局部曝光装置，用于对在基板上形成的感光膜的规定区域实施曝光处理，其特征在于，具备：基板输送单元，其形成基板输送路径，沿着上述基板输送路径平流输送上述基板；光源，其在上述基板输送路径的上方具有沿与基板输送方向相交叉的方向线状地排列的多个发光元件，能够通过上述发光元件的发光来对在上述发光元件的下方沿着基板输送方向相对于上述发光元件移动的上述基板上的感光膜进行光照射；发光驱动部，其能够选择性地将构成上述光源的多个发光元件中的一个或者多个发光元件作为发光控制单位来进行发光驱动；照度检测单元，其被设置成在上述基

专利地区：日本