X线分析装置专利登记公告

专利名称：X线分析装置

摘要：本发明提供X线分析装置，其通过用所需最小限度的动作仅对测定者需要的试料上的区域进行测定，能够缩短映射分析所需的测定时间。对映射像与试料的图像数据进行重叠处理，确定与照射点相应的位置，根据其结果进行图像显示，在该显示的图像中指定测定实施区域，使试料移动机构在所指定的区域以外的区域中高速移动。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210061012.6

专利申请（专利权）人：精工电子纳米科技有限公司

专利发明（设计）人：坂井范昭

主权项：一种X线分析装置，其特征在于，该X线分析装置具有：载置试料的试料台；能够移动该试料台的移动机构；放射线源，其向所述试料上的任意照射点照射1次放射线；X线检测部，其在检测从所述试料释放的特性X线及散射X线的同时，输出包含该特性X线及散射X线的能量信息的信号；分析部，其与所述X线检测部连接，对所述信号进行分析；图像获取部，其获取所述试料的图像数据；分析处理部，其与所述分析部连接，判别与特定元素对应的X线强度；X线映射处理部，其根据该分析处理部的判别结果确定与所述X线强度对应的基于颜色和/或亮度的强度对比度，执

专利地区：日本