一种薄样掠射X射线荧光光谱分析方法专利登记公告

专利名称：一种薄样掠射X射线荧光光谱分析方法

摘要：一种薄样掠射X射线荧光（XRF）光谱分析方法，包括如下步骤：（1）制作厚度小于100nm的薄样或多层薄样，放置于XRF分析仪的样品载体上；（2）确定掠射角α，α根据样品厚度、样品材料折射率和样品载体材料折射率计算得出；（3）调节光路，使X射线能够以掠射角α照射到样品上；（4）接收样品发出的X荧光，进行分析。本发明所提供的XRF光谱分析方法使用单色条状X射线束，以掠射的方式照射的试样上，穿透试样进入样品载体的X射线非常少，可以有效的减少基底效应，提高系统的分辨率，降低检出限。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210188834.0

专利申请（专利权）人：深圳市华测检测技术股份有限公司

专利发明（设计）人：董宁;戴煦;陈君;李波;刘攀超

主权项：一种薄样掠射X射线荧光（XRF）光谱分析方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）制作厚度小于100nm的薄样或多层薄样，放置于XRF分析仪的样品载体上；（2）确定掠射角α，α根据样品厚度、样品材料折射率和样品载体材料折射率计算得出；（3）调节光路，将X射线整形为条状单色光，并以掠射角α照射到样品上；（4）接收样品发出的X荧光，进行分析。

专利地区：广东