晶体管及其制造方法以及功率转换系统专利登记公告
专利名称:晶体管及其制造方法以及功率转换系统
摘要:本发明公开了一种晶体管及其制造方法,以及一种功率转换系统。其中所述晶体管包括:外延层以及至少一个沟槽,其中所述沟槽的横截面为圆形,所述沟槽包括由外延层确定的沟槽表面、积淀在沟槽表面的栅氧化层以及积淀在沟槽内的栅导通区。晶体管的制造方法包括:在衬底上生长外延层;在外延层上积淀氧化层;在氧化层上积淀并图案化光刻胶;以及刻蚀氧化层和所述外延层以形成至少一个横截面为圆形的沟槽,其中所述沟槽表面由所述外延层确定;在沟槽表面生长第二氧化层;在至少一个沟槽内形成栅导通区。所述功率转换系统包括至少一个开关,所述开关包括上
专利类型:发明专利
专利号:CN201210061502.6
专利申请(专利权)人:凹凸电子(武汉)有限公司
专利发明(设计)人:汉密尔顿·卢;拉兹洛·利普赛依
主权项:一种晶体管,其特征在于,所述晶体管包括:外延层;以及至少一个沟槽,其中所述沟槽的横截面为圆形,所述沟槽包括由所述外延层确定的沟槽表面、积淀在所述沟槽表面的栅氧化层、以及积淀在所述沟槽内的栅导通区。
专利地区:湖北
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目,不代表该专利由我公司代理取得,上述专利权利属于专利权人,未经(专利权人)许可,擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利,请搜索专利权人联系方式,获得专利权人的授权许可。