压印光刻专利登记公告

专利名称：压印光刻

摘要：本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210061782.0

专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司

专利发明（设计）人：S·F·伍伊斯特;J·F·迪克斯曼;Y·W·克鲁特-斯特格曼

主权项：一种光刻设备，包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，其中，所述模板保持器布置成使得当压印模板被保持在模板保持器中时压印模板的上表面保持暴露。

专利地区：荷兰

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