一种适用于非平整衬底晶圆级纳米压印的装置和方法专利登记公告

专利名称：一种适用于非平整衬底晶圆级纳米压印的装置和方法

摘要：本发明公开了一种适用于非平整衬底晶圆级纳米压印的装置和方法。其方法为：引入一种氟聚合物基薄膜结构复合软模具，压印采用气体辅助“微接触”和“流体介电泳力”驱动实现液态聚合物在很小压印力条件下对于模具纳米结构腔体的快速完全填充；脱模基于氟聚合物基极低表面能，并结合“两次固化”和“揭开”式脱模方法，采用微小的脱模力即可实现大面积脱模。本发明实现了在非平整（弯曲、翘曲或者台阶）或曲面或者易碎衬底制造大面积微纳米结构，具有复形精度高、压印面积大、效率高、成本低的显著优势，适用于LED纳米图形化技术、光学器件（如光学

专利类型：发明专利

专利号：CN201210050010.7

专利申请（专利权）人：青岛理工大学

专利发明（设计）人：兰红波;丁玉成

主权项：?一种适用于非平整衬底晶圆级纳米压印的装置，其特征是，它包括：工作台、导电的衬底、液态有机聚合物、模板、气阀板、气腔室、紫外光光源、压印机构、真空管路、压力管路、电场；其中，涂铺有液态有机聚合物的整片衬底固定于工作台之上；模板通过真空管路吸附在气阀板的底面，气阀板固定在与气腔室的底面，紫外光光源固定在气腔室的顶面；压印机构与气腔室相连；压力管路与气腔室的进气口相连；所述模板包括支撑导电层和特征结构层，在支撑导电层与衬底间设有电场；在特征结构层上还有纳米结构腔。

专利地区：山东