化学气相沉积机台专利登记公告

专利名称：化学气相沉积机台

摘要：本发明涉及一种化学气相沉积机台，包括标准机械界面、前端部分、机械手臂、缓存处、缓冲区和沉积腔体，其中所述标准机械界面是晶片进入机台的开始位置，所述前端部分一端连接标准机械界面另一端连接缓存处，所述前端部分设有风机过滤机组，所述风机过滤机组包括风扇，所述风扇过滤前端部分的空气，所述缓冲区连接所述缓存处，所述沉积腔体与缓冲区相连接，所述机械手臂用于传输标准机械界面、缓存处和沉积腔体之间的晶片，所述风机过滤机组还包括一个用于检测风扇工作状态的检测装置。本发明在前端部分中的风机过滤机组上增加一个用于检测风扇工作状

专利类型：发明专利

专利号：CN201210061942.1

专利申请（专利权）人：上海宏力半导体制造有限公司

专利发明（设计）人：胡可绿;解毅;何雅彬;朱义党;郑修锋;王华钧;忻圣波

主权项：一种化学气相沉积机台，包括标准机械界面、前端部分、机械手臂、缓存处、缓冲区和沉积腔体，其中所述标准机械界面是晶片进入机台的开始位置，所述前端部分一端连接标准机械界面另一端连接缓存处，所述前端部分设有风机过滤机组，所述风机过滤机组包括风扇，所述风扇过滤前端部分的空气，所述缓冲区连接所述缓存处，所述沉积腔体与缓冲区相连接，所述机械手臂用于传输标准机械界面、缓存处和沉积腔体之间的晶片，其特征在于：所述风机过滤机组还包括一个用于检测风扇工作状态的检测装置。

专利地区：上海