优化版图栅长的方法及其装置专利登记公告

专利名称：优化版图栅长的方法及其装置

摘要：一种优化版图栅长的方法，包括：根据集成电路设计版图的具有寄生参数的电路网表，获得集成电路设计版图中每个标准单元的各个节点的当前延时时间和极限延时时间；根据标准单元中每个节点的当前延时时间和极限延时时间，获得各个节点对应的栅长调整长度；按照每个标准单元中各个节点对应的栅长的调整长度，将集成电路设计版图中的栅沿栅长方向增加相应的调整长度，并对集成电路版图中的图形进行相应调整，以保持集成电路版图中的图形之间的相对位置关系不变。通过极限延时时间确定各标准单元内各个节点允许的栅长的调整长度，这样在满足原电路时序的前

专利类型：发明专利

专利号：CN201210062173.7

专利申请（专利权）人：中国科学院微电子研究所

专利发明（设计）人：吴玉平;刘磊;陈天佐;吕志强

主权项：一种优化版图栅长的方法，集成电路设计版图内的栅沿同一方向设置，其特征在于，包括：S1，根据集成电路设计版图的具有寄生参数的电路网表的仿真结果，获得集成电路设计版图中每个标准单元的各个节点的当前延时时间和极限延时时间；S2，根据标准单元中每个节点的当前延时时间和极限延时时间，获得每个标准单元中各个节点对应的栅长的调整长度；S3，按照每个标准单元中各个节点对应的栅长的调整长度，将集成电路设计版图中的栅沿栅长方向增加相应的调整长度，并对集成电路版图中的图形进行相应调整，以保持集成电路版图中的图形之间的相对位置关

专利地区：北京