一种可改善Moiré条纹的像素结构及像素检测方法专利登记公告

专利名称：一种可改善Moiré条纹的像素结构及像素检测方法

摘要：本发明提供了一种可改善Moiré条纹的像素结构及像素检测方法。该像素检测方法包括：检测藉由像素结构中的棱镜所看到的多个遮黑区；计算所述多个遮黑区中的位置种类数目P以及所述多个遮黑区中位置种类之间的差异数目N；根据上述位置种类数目P和差异数目N，调整所述像素结构的遮黑区位置；重复上述步骤，直至Moiré条纹达到液晶面板的预设规格。采用本发明，将像素的第一遮黑区域和第二遮黑区域分别设置于数据线的两侧且在水平方向上交错排列，藉由该交错排列的两个遮黑区域来彻底消除Moiré条纹，提升面板的性能和用户的视觉体验。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210062708.0

专利申请（专利权）人：友达光电股份有限公司

专利发明（设计）人：何升儒;陈宛婷;吴信颖;曹正翰

主权项：一种可改善Moiré条纹的像素结构，其特征在于，该像素结构包括：多条扫描线，被设置为沿水平方向延伸；多条数据线，被设置为沿竖直方向延伸，并且与所述多条扫描线相正交；以及一第一遮黑区域和一第二遮黑区域，所述第一遮黑区域与所述第二遮黑区域相对设置，并且分别位于所述数据线的两侧；其中，所述第一遮黑区域与所述第二遮黑区域在水平方向上交错排列。

专利地区：台湾