10560纳米带通红外滤光片及其制作方法专利登记公告

专利名称：10560纳米带通红外滤光片及其制作方法

摘要：本发明公开了一种10560纳米带通红外滤光片及其制作方法，其特征是：采用尺寸为Φ25.4×0.5mm的单晶锗Ge作基板；其表面光圈N≤5，局部光圈ΔN≤0.5，平行度θ≤1’，表面光洁度优于60/40；镀膜材料选择硫化锌ZnS和单晶锗Ge，在基板两个表面上分别沉积主膜系面薄膜：Sub|HLHLH2LHLHLHLHLH2LHLHL|Air和干涉截止膜系面薄膜：Sub|0.76(0.5HL0.5H)5?0.5(0.5HL0.5H)5?0.35(0.5HL0.5H)5?0.25(0.5HL0.5H)6?0.16

专利类型：发明专利

专利号：CN201210063888.4

专利申请（专利权）人：杭州麦乐克电子科技有限公司

专利发明（设计）人：吕晶

主权项：一种10560纳米带通红外滤光片，其特征是：(1)采用尺寸为Φ25.4×0.5mm的单晶锗Ge作基板；其表面光圈N≤5，局部光圈ΔN≤0.5，平行度θ≤1’；表面光洁度优于60/40；(2)镀膜材料选择硫化锌ZnS和单晶锗Ge，在基板两个表面上分别沉积多层干涉薄膜，所述多层干涉薄膜符合下述第3结构特征：(3)主膜系面薄膜结构采用Sub|HLHLH2LHLHLHLHLH2LHLHL|Air；干涉截止膜系面薄膜采用以下结构：Sub|0.76(0.5HL0.5H)5?0.5(0.5HL0.5H)5?0.35(0

专利地区：浙江