3.65微米至5微米宽带红外滤光片及其制作方法专利登记公告

专利名称：3.65微米至5微米宽带红外滤光片及其制作方法

摘要：本发明公开了一种3.65微米至5微米宽带红外滤光片及其制作方法，其特征是：采用尺寸为Φ18×1.0mm的单晶锗Ge作基板1，其表面光圈N≤5，局部光圈ΔN≤0.5，平行度θ≤1’，表面光洁度优于60/40；镀膜材料选择一氧化硅SiO和单晶锗Ge，在基板两个表面上分别沉积多层干涉薄膜；第一面膜系干涉薄膜2设计采用：Sub|1.33(.5HL.5H)53.39(.5LH.5L)5|Air；第二面膜系干涉薄膜3设计采用：Sub|0.92(.5HL.5H)3??1.1(.5HL.5H)4|Air；本发明提供的一种

专利类型：发明专利

专利号：CN201210063890.1

专利申请（专利权）人：杭州麦乐克电子科技有限公司

专利发明（设计）人：吕晶

主权项：一种3.65微米至5微米宽带红外滤光片，其特征是：(1)采用尺寸为Φ18×1.0mm的单晶锗Ge作基板，其表面光圈N≤5，局部光圈ΔN≤0.5，平行度θ≤1’，表面光洁度优于60/40；(2)镀膜材料选择一氧化硅SiO和单晶锗Ge，在基板两个表面上分别沉积多层干涉薄膜；(3)第一面膜系干涉薄膜设计采用：Sub|1.33(.5HL.5H)5??3.39(.5LH.5L)5|Air第二面膜系干涉薄膜设计采用：Sub|0.92(.5HL.5H)3??1.1(.5HL.5H)4|Air膜系中符合含义分别为：Sub

专利地区：浙江