一种晶圆级真空封装的IR FPA器件及其制造方法专利登记公告
专利名称:一种晶圆级真空封装的IR FPA器件及其制造方法
摘要:本发明公开了一种晶圆级真空封装的IRFPA器件及其制造方法,采用2片晶圆键合的方式来实现红外探测器的制作及实现其晶圆级封装,把CMOSIC与MEMS器件分开制作,既实现与CMOSIC的集成,又增加MEMS红外探测器器件制作的灵活性,又能同时实现晶圆级封装。本发明的优点是:通过在一片晶圆上制作CMOS读出电路和共振吸收结构的反光板,利用另外一片晶圆制造IRFPA的MEMS结构部分,同时利用这片晶圆做IRFPA的红外光窗,既利用共振吸收结构提供了红外IRFPA器件的红外吸收效率,同时实现IRFPA器件的晶圆级
专利类型:发明专利
专利号:CN201210088348.1
专利申请(专利权)人:江苏物联网研究发展中心
专利发明(设计)人:欧文;蒋文静
主权项:?晶圆级真空封装的IR?FPA器件,包括第一片晶圆(101)和第二片晶圆(201),其特征是:所述第一片晶圆(101)为常规的硅片,采用常规IC制作工艺制作出IR?FPA的读出电路,同时以第一片晶圆(101)最上层金属制作出IR?FPA器件所需要的共振吸收的反光板(104);在第一片晶圆(101)有反光板(104)的一面淀积有介质材料(102),贯穿所述第一片晶圆(101)和介质材料(102)制有TSV结构(103)用于电连接及实现贴片式封装,在TSV结构(103)和介质材料(102)的电连接点制作第一低
专利地区:江苏
关于上述专利公告申明 : 上述专利公告转载自国家知识产权局网站专利公告栏目,不代表该专利由我公司代理取得,上述专利权利属于专利权人,未经(专利权人)许可,擅自商用是侵权行为。如您希望使用该专利,请搜索专利权人联系方式,获得专利权人的授权许可。