一种极紫外光刻投影物镜设计方法专利登记公告

专利名称：一种极紫外光刻投影物镜设计方法

摘要：本发明提供一种极紫外光刻投影物镜的设计方法，具体步骤为：确定光刻系统中投影物镜为六反射镜结构，并设定该投影物镜的光学系统参数；选取六枚反射镜和光阑设置于光刻系统中掩膜和硅片之间，确定各反射镜之间的比例参数；根据给定的物方数值孔径和物方主光线入射角度，计算对第二反射镜M2与第一反射镜M1出射的光线不发生遮挡的空间和/或第一反射镜主光线入射角度，并根据计算出的参数判断出设定的光学系统参数是否合理，最终完成光刻投影物镜的设计。本发明能够根据不同的用户要求进行设计和搜索，避免了传统光学设计方法在现有结构上进行修改

专利类型：发明专利

专利号：CN201210097574.6

专利申请（专利权）人：北京理工大学

专利发明（设计）人：李艳秋;刘菲

主权项：一种极紫外光刻投影物镜的设计方法，其特征在于，具体步骤为：步骤101、确定光刻系统中投影物镜为六反射镜结构，并设定该投影物镜的光学系统参数；选取六枚反射镜和光阑设置于光刻系统中掩膜和硅片之间，六枚反射镜及光阑的设置位置：从掩膜开始沿光路方向依次为第一反射镜M1、光阑、第二反射镜M2、第三反射镜M3、第四反射镜M4、第五反射镜M5以及第六反射镜M6，且光阑放置于第二反射镜M2上；确定各反射镜之间的比例参数；步骤102、计算掩膜到第一反射镜M1的距离为?l1和第二反射镜M2到第一反射镜M1的距离为?d1，并获

专利地区：北京