具有等离子体辐射源的设备和形成辐射束的方法以及光刻设备专利登记公告

专利名称：具有等离子体辐射源的设备和形成辐射束的方法以及光刻设备

摘要：本发明公开了一种具有等离子体辐射源的设备和形成辐射束的方法以及光刻设备。所述设备包括等离子体辐射源(24)和翼片阱(25)，该翼片阱设置有基本上平行于等离子体源(20)的辐射的方向延伸的多个薄翼片(20)。在等离子体辐射源(20)和翼片阱(24)之间设置格栅(22)。在格栅(22)和翼片阱(24)之间设置空间。该设备还包括电势应用电路(28)，其构造并布置成施加电势到格栅(22)上，使得格栅(22)排斥由等离子体辐射源(22)发射的电子并在格栅(20)和翼片阱(24)之间产生正的空间电荷，以使由等离子体辐

专利类型：发明专利

专利号：CN201210129023.3

专利申请（专利权）人：ASML荷兰有限公司

专利发明（设计）人：V·M·克里夫特逊;V·Y·班尼恩;V·V·伊娃诺夫;E·D·克洛普;K·N·克什烈夫;Y·V·斯戴尼克夫;O·雅克什夫

主权项：一种用于形成电磁辐射束的设备，所述设备包括：等离子体辐射源；翼片阱，所述翼片阱设置有基本上平行于所述等离子体源的辐射的方向延伸的多个薄翼片；格栅，所述格栅设置在所述等离子体辐射源和所述翼片阱之间，其中在所述格栅和所述翼片阱之间设置空间；电势应用电路，所述电势应用电路构造并布置成施加电势到所述格栅，使得所述格栅排斥由所述等离子体辐射源发射的电子，并且在所述格栅和所述翼片阱之间产生正的空间电荷，以将由所述等离子体辐射源发射的离子偏转到所述翼片阱，其中，所述格栅的格栅开口的尺寸小于或等于：在运行期间在所述格栅的

专利地区：荷兰