一种提高图形线宽量测精度对准的方法专利登记公告

专利名称：一种提高图形线宽量测精度对准的方法

摘要：本发明公开一种提高图形线宽量测精度对准的方法，其中：S1：在掩模板上设置具有数字或字母和接触孔的图形结构；S2：对所述掩模板进行曝光晶圆，在交界处形成对准图形；S3：建立自动量测程序，对所述对准图形进行精度对准；S4：自动量测晶圆所需的结构图形。使用本发明的一种提高图形线宽量测精度对准的方法，通过有接触孔和数字或字母的图形结构，能够有效地使SEM自动量测更容易对焦，大大提高了自动量测的效率。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210136005.8

专利申请（专利权）人：上海华力微电子有限公司

专利发明（设计）人：王剑;戴韫青

主权项：一种提高图形线宽量测精度对准的方法，其特征在于，S1：在掩模板上设置具有数字或字母和接触孔的图形结构；S2：对所述掩模板进行曝光晶圆，在交界处形成对准图形；S3：建立自动量测程序，对所述对准图形进行精度对准；S4：自动量测晶圆所需的结构图形。

专利地区：上海