一种磁控溅射镀膜装置、纳米多层膜及其制备方法专利登记公告

专利名称：一种磁控溅射镀膜装置、纳米多层膜及其制备方法

摘要：一种磁控溅射镀膜装置，其特征在于，至少包括真空镀膜室、溅射靶、真空镀膜室底座上的转架台和转架台上的工件架，以及驱动转架台绕转架台的中心轴转动的第一转动系统；所述溅射靶设置在转架台周围并与转架台垂直，所述溅射靶包括两个第一溅射靶及一个第二溅射靶，所述溅射靶位于与转架台同心的圆周上，两个所述第一溅射靶之间的圆弧为180-240度，所述第二溅射靶等分两个第一溅射靶之间的圆弧；所述转架台上固定设置有穿过转架台表面的隔板，在垂直于转架台方向上，所述隔板的两端均超出所述溅射靶的两端。该装置结构简单，对工艺的控制简单，

专利类型：发明专利

专利号：CN201210151152.2

专利申请（专利权）人：北京中奥汇成生物材料科技有限公司

专利发明（设计）人：金攻;涂江平;李玲玲;王刚;王美娜

主权项：一种磁控溅射镀膜装置，其特征在于，至少包括真空镀膜室、溅射靶、真空镀膜室底座上的转架台和转架台上的工件架，以及驱动转架台绕转架台的中心轴转动的第一转动系统；所述溅射靶设置在转架台周围并与转架台垂直，所述溅射靶包括两个第一溅射靶及一个第二溅射靶，所述溅射靶位于与转架台同心的圆周上，两个所述第一溅射靶之间的圆弧基本为180?240度，所述第二溅射靶等分所述圆弧；所述转架台上固定设置有穿过转架台表面的隔板，在垂直于转架台方向上，所述隔板的两端均超出所述溅射靶的两端。

专利地区：北京