光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法专利登记公告

专利名称：光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法

摘要：光致抗蚀剂组合物和形成光刻图案的方法。本发明提供了在形成光刻图案中有用的光致抗蚀剂组合物。本发明还提供了涂覆有所述光致抗蚀剂组合物的基板和形成光刻图案的方法。所述组合物、方法和涂覆的基板在半导体器件的制造中找到了特别的应用性。提供了光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：包括通式(I)、(II)和(III)单元的第一聚合物；包括以下通式(IV)和(V)单元的第二聚合物；和光酸产生剂。

专利类型：发明专利

专利号：CN201210153151.1

专利申请（专利权）人：罗门哈斯电子材料有限公司

专利发明（设计）人：Y·C·裴;朴钟根;李承泫;刘沂;T·卡多拉西亚;R·贝尔

主权项：光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：包括以下通式(I)、(II)和(III)单元的第一聚合物：其中：R1表示C1?C3的烷基；R2表示C1?C3的亚烷基；m表示0或1；和L1表示内酯基团；包括以下通式(IV)和(V)单元的第二聚合物：其中：R3表示C1?C3的烷基；L2表示内酯基团；和n是0或1；和光酸产生剂。FSA00000719322800011.tif,FSA00000719322800012.tif

专利地区：美国