基板洗净方法和基板洗净装置专利登记公告

专利名称：基板洗净方法和基板洗净装置

摘要：本发明是对水的静接触角是85度以上的基板表面进行洗净的方法。包含如下工序：以基板的中心部和旋转中心部一致的方式使基板保持部水平保持基板；使所述基板保持部围绕垂直轴旋转的同时，从洗净喷嘴向基板的中心部喷出洗净液，通过离心力扩展到基板的表面整体；接着在使基板保持部旋转的状态下将基板上的洗净液的喷出位置变更到从基板的中心部偏移的偏心位置上，并在将洗净液的喷出位置的气体喷出位置侧界面和气体喷嘴的气体喷出位置的洗净液喷出位置侧界面的距离设定为9mm～15mm的状态下，从所述气体喷嘴向所述基板的中心部喷出气体形成洗净

专利类型：发明专利

专利号：CN201210156325.X

专利申请（专利权）人：东京毅力科创株式会社

专利发明（设计）人：吉原孝介;吉田勇一;山本太郎

主权项：一种基板洗净方法，进行基板的洗净和干燥，其特征在于，具备：一边大致水平地保持基板，一边使基板围绕垂直的轴旋转的工序；使用喷出洗净液的洗净喷嘴，向旋转的基板上的中心部喷出洗净液的工序；以接受从所述洗净喷嘴喷出的洗净液的基板上的位置从基板上的中心部朝向基板上的周缘移动固定距离的方式使所述洗净喷嘴移动的工序；一边保持所述接受洗净液的基板上的位置从基板上的中心部离开固定距离的状态，一边使用喷出气体的气体喷嘴向基板上的中心部以规定时间喷出气体，由此在基板上的中心部形成干燥区域的工序；以及在基板上的中心部形成了干燥区

专利地区：日本