一种用于柔性基材磁控溅射镀膜靶材专利登记公告

专利名称：一种用于柔性基材磁控溅射镀膜靶材

摘要：本实用新型涉及一种用于磁控溅射镀膜靶材，尤其涉及一种形成介质膜的MF磁控溅射用靶材。它包括背板，所述背板的上表面有一凸起条状部分，所述背板上的靶材通过粘接层与背板相连。溅射镀膜过程中，靶材中间背板材质凸起条状部分有效的阻挡由于局部高温等因素引起的邦定材质喷溅，该技术方案极大地提高了溅射镀膜成品良率及提高了靶材利用率。

专利类型：实用新型专利

专利号：CN201220353069.9

专利申请（专利权）人：南昌欧菲光科技有限公司

专利发明（设计）人：李晨光

主权项：一种用于柔性基材磁控溅射镀膜靶材，其特征在于：它包括背板（3），所述背板（3）的上表面有一凸起条状部分，所述背板（3）上的靶材（1）通过粘接层（2）与背板（3）相连。

专利地区：江西