铝电解用二硼化钛复合层式阴级结构专利登记公告

专利名称：铝电解用二硼化钛复合层式阴级结构

摘要： 本实用新型提供了一种铝电解用TiB₂复合层式阴级结构.该结构的基体为石墨化碳素材料,表面层是用电沉积法形成的完整TiB₂薄层.借助于含有Ti、B、AI、C、Si的化合物和碳纤维构成的中间层将表层和基体牢固结合起来.该结构表面与铝液湿润良好,对铝液和钠的侵蚀具有很好的抵抗能力.使用该结构的电解槽,能缩小极距至1.5-2.5cm,节省槽电压0.4-1.0伏,电流效率可提高到92-95%.该结构制造方法简便,TiB₂用量少,可节省建槽投资.

专利类型：实用新型专利

专利号：CN85205776

专利申请（专利权）人：东北工学院

专利发明（设计）人：薛济来; 邱竹贤

主权项： 一种用ＴｉＢ↓［２］覆盖的铝电解阴极结构，其特征在于：由一完整的电沉积ＴｉＢ↓［２］表面层，中间结合层和石墨化碳素基体构成的复合层式阴极。

专利地区：辽宁