光刻机硅片承载台及其使用方法专利登记公告

专利名称：光刻机硅片承载台及其使用方法

摘要：本发明公开了一种光刻机硅片承载台，包括承载台基座、真空孔、应力感应器、连接器、硅片接送器；所述承载台基座上设有多个真空孔及硅片接送器；承载台基座底部设有连接器；所述承载台基座的表面设置多个应力感应器。所述应力感应器连接力电转换电路，力电转换电路的输出端与终端控制器连接，终端控制器连接动力马达。所述应力感应器通过感应硅片对其作用力的作用点、大小、方向等信息，实现伸缩，调节高度。本发明光刻机硅片承载台，通过调节与硅片接触的各应力感应器的高度，能够保证硅片的正面始终处于同一水平面上，避免因硅片背面存在颗粒等沾污

专利类型：发明专利

专利号：CN200810043959.8

专利申请（专利权）人：上海华虹NEC电子有限公司

专利发明（设计）人：宁开明

主权项：一种光刻机硅片承载台，包括承载台基座、真空孔、连接器、硅片接送器；所述承载台基座上设有多个真空孔及硅片接送器；承载台基座底部设有连接器；其特征在于：所述承载台基座的表面设置多个应力感应器。

专利地区：上海