接近式曝光装置、其掩模搬送方法及面板基板的制造方法专利登记公告

专利名称：接近式曝光装置、其掩模搬送方法及面板基板的制造方法

摘要：本发明可精度良好地定位比基板小的掩模而将其安装到掩模架上。将具有从夹盘10内部上升的上顶销12及使上顶销12上下移动的马达11的多个上顶销单元设置在夹盘10上。利用掩模搬送装置将掩模2搬入到夹盘10中，并通过上顶销12而从掩模搬送装置接收掩模2。利用移动机构53来移动第一图像获取装置52，并利用第一图像获取装置52而获取掩模2的位置检测用标记的图像。对第一图像获取装置52的图像信号进行处理，检测掩模2的位置，并根据已检测出的掩模2的位置，利用X平台5、Y平台7、以及θ平台8来移动夹盘10，进行掩模2的定位

专利类型：发明专利

专利号：CN200910178873.0

专利申请（专利权）人：株式会社日立高科技

专利发明（设计）人：森顺一;松山胜章;樋川博志

主权项：一种接近式曝光装置，包括：搭载基板的夹盘、保持掩模的掩模架、以及移动所述夹盘的平台，在掩模和基板之间设有微小的间隙，以将掩模的图案转印到基板，该接近式曝光装置的特征在于包括：对所述平台的移动加以控制的第一控制机构；将掩模搬入到所述夹盘的掩模搬送装置；多个上顶销单元，具有从所述夹盘内部上升的上顶销及使该上顶销上下移动的马达，并安装在所述夹盘上；第一图像获取装置，获取设置在掩模上的位置检测用标记的图像，并输出图像信号；使所述第一图像获取装置移动的移动机构；以及图像处理装置，对所述第一图像获取装置所输出的图像信

专利地区：日本