用于光刻术模型校准的图案选择专利登记公告

专利名称：用于光刻术模型校准的图案选择

摘要：本发明主要涉及用于光刻模型校准的图案选择的方法和设备。根据一些方面，本发明的图案选择算法可以被应用于任何已有的候选测试图案池。根据一些方面，本发明自动地选择这些测试图案，其能够更有效地由已有的候选测试图案池来确定优化的模型参数值，如与设计优化图案相反。根据另外的方面，根据本发明的已选择的测试图案组能够激发模型公式中的所有已知的物理和化学特性，确保测试图案的晶片数据可以将模型校准推动成优化的参数值，其实现了由模型公式施加的预测精度的上边界。

专利类型：发明专利

专利号：CN200910212013.4

专利申请（专利权）人：睿初科技公司

专利发明（设计）人：曹宇;叶军;邵文晋;R·J·G·古森斯

主权项：一种用于计算光刻术模型校准的测试图案选择的方法，包括步骤：识别候选的测试图案池；识别光刻模型参数组；和自动地从所述候选测试图案池中选择一组测试图案，其能够最有效地确定所述已识别的模型参数的优化值。

专利地区：美国