用于光刻校准的方法和系统专利登记公告

专利名称：用于光刻校准的方法和系统

摘要：本发明公开了一种用于光刻校准的方法和系统。一种有效的光学和抗蚀剂参数校准的方法，其基于模拟用来对具有多个特征的目标图案成像的光刻过程的图像性能。所述方法包括步骤：确定用于生成模拟图案的函数，其中所述函数表征与所述光刻过程相关的过程变化；和使用所述函数生成所述模拟图案，其中所述模拟图案表示用于所述光刻过程的所述目标图案的所述图像结果。用于光刻过程的校准的系统和方法，通过该系统和方法计算用于光学系统的名义配置的多项式拟合，该系统和方法可以用来估计其它配置的临界尺寸。

专利类型：发明专利

专利号：CN200910212014.9

专利申请（专利权）人：睿初科技公司

专利发明（设计）人：叶军;曹宇;冯函英

主权项：一种校准光刻系统的方法，包括步骤：获得使用光刻过程的配置生成的电路图案的多个测量尺寸；使用所述光刻过程的配置的模型生成所述电路图案的多个估计尺寸；对于所述电路图案中的特定图案，计算所述估计尺寸和与所述配置相关的预定义的参数之间的多项式拟合；以及基于所述多项式拟合来校准所述光刻过程，其中所述校准所述光刻过程的步骤包括使用优化算法对所述估计尺寸和测量尺寸之间的差异进行最小化的步骤。

专利地区：美国