曝光装置专利登记公告

专利名称：曝光装置

摘要：提供一种曝光装置，具备进行曝光处理的曝光处理部与进行对位的对准平台部，能够尽量使对准平台小型化、低成本化。将曝光光从光照射部(1)照射于光罩(M)，在准直显微镜(10)显像光罩标记(MAM)的投影像，求出其位置坐标并存储。一方面，在对准平台(AS)上载置工件(W)，以工件标记(WAM)所形成的间隔单步进给平台(AS)或准直显微镜(4)，利用准直显微镜(4)以排列的方式检测工件标记(WAM)，存储其位置坐标。顺便，工件搬运机构(23)将工件(W)搬运至曝光平台(WS)，进行对位以使光罩标记(MAM)与工件标

专利类型：发明专利

专利号：CN200910212111.8

专利申请（专利权）人：优志旺电机株式会社

专利发明（设计）人：佐藤善彦;井上丰治

主权项：一种曝光装置，检测形成于光罩的光罩对准标记和形成于工件的工件对准标记，进行对位以使两者成为预定的位置关系，结束对位之后，隔着光罩将曝光光照射于工件，将形成于光罩的图案曝光于工件，其特征在于，上述曝光装置具备：对准平台部，该对准平台部具有对准平台、多个工件对准标记检测用准直显微镜和平台/显微镜移动机构，该对准平台保持形成有对准标记的工件，该多个工件对准标记检测用准直显微镜检测被保持在对准平台上的工件的工件对准标记，该平台/显微镜移动机构使对准平台和工件对准标记检测用准直显微镜在一个轴的方向相对地移动工件的宽

专利地区：日本