光掩模的制造方法及使用该光掩模的图案转印方法专利登记公告

专利名称：光掩模的制造方法及使用该光掩模的图案转印方法

摘要：本发明是对于光掩模，在透光性基板的主表面上形成遮光膜并使其以及形成图案，从而形成遮光膜图案，然后，对在该遮光膜图案中所含的Cr实施Cr离子降低处理，由此可以使作为生长性异物产生的主要原因的Cr离子降低，能够抑制生长性异物的产生。

专利类型：发明专利

专利号：CN200910221884.2

专利申请（专利权）人：HOYA株式会社

专利发明（设计）人：村井诚;新地博之;土屋雅誉;本田邦之;田中友和;桥本宪尚

主权项：一种光掩模的制造方法，是对在透光性基板上形成的以Cr为主要成分的薄膜形成图案后而得到的光掩模的制造方法，其特征在于，包括下列工序：在所述薄膜上形成规定图案的工序；以及进行Cr离子降低处理工序，即：降低已形成所述图案的所述薄膜中所含的已离子化的Cr的量、或者抑制Cr的离子化。

专利地区：日本